咸阳磁控溅射镀膜机
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- 产品规格:
- 发货地:北京市密云县
关键词
咸阳磁控溅射镀膜机
详细说明
真空腔室Ф246×228mm,304优质不锈钢
分子泵进口Pfeiffer分子泵
前级泵机械泵,北仪优成
真空规全量程真空规,上海玉川
溅射靶Ф2英寸永磁靶2支(含靶挡板)
溅射电源500W直流电源1台,300W射频电源1台
流量计20sccm/50sccm进口WARWICK
控制系统PLC+触摸屏智能控制系统1套
冷水机LX-300
前级阀GDC-25b电磁挡板阀1套
旁路阀GDC-25b电磁挡板阀1套
限流阀DN63mm一套
充气阀Φ6mm,电磁截止阀1套
放气阀Φ6mm,电磁截止阀1套
基片台Ф100mm,高度:60~120mm可调,旋转:0-20r/min可调,可加热至300℃
膜厚监控仪进口Inficon SQM-160单水冷探头,精度0.1Å(选配)
真空管路波纹管、真空管道等1套
设备机架机电一体化
预留接口CF35法兰一个
备件CF35铜垫圈及氟密封圈全套等
靶材通常是指在物理实验、材料科学或工业应用中用作靶的材料。在实验中,靶材可以被用来接收粒子束的撞击,如在粒子加速器中,靶材用于产生射线或其他物理现象。在材料科学中,靶材常用于薄膜沉积技术,如溅射或蒸发镀膜,以形成特定的薄膜材料。靶材的种类和特性会根据其应用而有所不同,例如金属靶、陶瓷靶或复合材料靶。选择合适的靶材可以影响到实验的结果、材料的性质以及终产品的性能。你想了解靶材的哪个方面呢?
PVD(物相沉积)镀膜机是一种用于在基材表面沉积薄膜的设备,广泛应用于电子、光学、工具制造和装饰等领域。其主要特点包括:
1. **薄膜质量高**:PVD工艺能够在较低的温度下沉积量、高致密度的薄膜,具有良好的附着力和均匀性。
2. **材料多样性**:PVD技术可以镀金属、合金和陶瓷材料,能够满足不同应用需求。
3. **环保性**:PVD过程通常不涉及有害化学物质,相比于化学气相沉积(CVD)等工艺更为环保。
4. **沉积速率可调**:通过调整工艺参数,可以控制薄膜的沉积速率,从而满足不同应用的需求。
5. **设备占用空间小**:PVD镀膜机相对较小,适合在空间有限的环境中使用。
6. **自动化程度高**:现代PVD设备通常具有较高的自动化水平,可以实现连续生产,提高生产效率。
7. **良好的耐磨性和耐腐蚀性**:沉积的薄膜通常具有的耐磨性和耐腐蚀性,适用于工业应用。
8. **适应性强**:可以处理不同形状和尺寸的基材,从小型零件到大型工件均可适应。
这些特点使得PVD镀膜机在多个领域得以广泛应用,并逐渐成为现代材料表面处理的重要设备。

小型磁控溅射镀膜机是一种常用于材料表面处理的设备,它的主要功能包括:
1. **薄膜沉积**:能够在基材表面沉积金属、绝缘体或半导体薄膜,广泛应用于电子、光学和材料科学等领域。
2. **均匀性**:通过磁控溅射技术,能够实现良好的膜厚均匀性和致密性,有助于提高薄膜性能。
3. **可调性**:用户可以根据不同的需求调整沉积参数,如功率、气压和气体成分,以获得的沉积效果。
4. **多种材料选择**:支持多种靶材的使用,能够沉积不同材料的薄膜,如铝、铜、氮化硅等。
5. **快速成膜**:小型磁控溅射镀膜机相对快速,适合小批量实验或研发。
6. **低温沉积**:允许在较低温度下进行沉积,有助于减少基材的热负荷,适合对热敏感材料的处理。
7. **简单操作**:由于其结构紧凑且操作相对简单,适合实验室和小规模生产使用。
这些功能使得小型磁控溅射镀膜机在科研、工业和教学等多个领域中得到广泛应用。

磁控溅射是一种常用的薄膜沉积技术,具有以下几个特点:
1. **高沉积速率**:由于使用了磁场增强了等离子体的密度,从而提高了溅射粒子的产生率,能够实现较高的沉积速率。
2. **均匀性**:磁控溅射能够在较大面积上实现均匀的薄膜沉积,适用于大面积涂层和均匀薄膜的要求。
3. **良好的附着力**:由于溅射过程中粒子能量较高,薄膜与基底之间的附着力较好,减少了薄膜剥离的风险。
4. **低温沉积**:相比于其他沉积技术,磁控溅射可以在相对较低的温度下进行,适合于对温度敏感的材料。
5. **多材料沉积**:能够实现多种材料的复合沉积,包括金属、绝缘体和半导体等,实现材料的多样性。
6. **可控性强**:沉积过程中的参数(如气体压力、功率、基板温度等)对薄膜的性质有较大影响,因此可以通过控制这些参数来调节薄膜的厚度和质量。
7. **环保性**:相较于某些化学气相沉积(CVD)技术,磁控溅射通常不涉及毒性气体,环境友好。
这些特点使得磁控溅射在电子、光电、硬涂层等领域得到了广泛应用。

靶材是指在实验或工业生产中用于材料分析、研究或加工的材料。靶材的特点主要包括以下几个方面:
1. **成分纯度**:靶材通常需要具备高纯度,以确保实验结果的准确性和重复性。
2. **均匀性**:靶材应具备良好的均匀性,以避免在物理或化学反应过程中产生不均匀现象,导致测试结果的偏差。
3. **机械性能**:靶材的机械强度、硬度和韧性等性能要求较高,以适应不同的加工和使用条件。
4. **热稳定性**:靶材的热稳定性影响其在高温环境下的性能,尤其是在气相沉积等高温工艺中,需要良好的耐热性。
5. **反应活性**:靶材的表面性质和化学反应性对材料的沉积或反应过程有重要影响,通常需要设计出合适的表面处理以优化性能。
6. **可加工性**:靶材需易于加工成所需的形状和尺寸,方便在实验和生产中使用。
7. **成本**:靶材的经济性也是一个关键因素,需要在性能和价格之间找到平衡。
靶材的选择会根据具体应用的需求有所不同,例如在半导体制造、涂层技术和材料科学研究中,靶材的特性往往会影响到终产品的质量和性能。
样品台是一种用于放置和支撑样品的实验设备,广泛应用于多个领域。以下是样品台的主要适用范围:
1. **生物医学研究**:在显微镜下观察细胞、组织切片和其他生物样品。
2. **材料科学**:用于测试金属、聚合物、陶瓷等材料的物理和化学性质。
3. **化学分析**:在化学实验中放置反应瓶、试剂和其他化学物质。
4. **电子显微镜**:在电子显微镜中支撑和固定样品,以便进行高分辨率观察。
5. **光学显微镜**:在光学显微镜中观察细小结构、颗粒和晶体等。
6. **工业检测**:用于质量控制和检测产品样品,如电子元件、机械零件等。
不同类型的样品台(如移动样品台、平面样品台等)可以根据具体需求进行选择,以满足不同实验或检测的需求。
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