延边桌面型热蒸发镀膜仪
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- 产品规格:
- 发货地:北京市密云县
关键词
延边桌面型热蒸发镀膜仪
详细说明
真空腔室Ф246×260mm,304优质不锈钢
分子泵国产FF-63/80分子泵
前级泵机械泵
真空规全量程真空规
蒸发源电阻蒸发源(兼容金属与有机蒸发)3组,可切换使用
蒸发电源2000W直流蒸发电源1台,供3组蒸发源切换使用
控制系统PLC+触摸屏智能控制系统1套
冷水机LX-300
膜厚仪FTM-107A单探头
前级阀GDC-25b电磁挡板阀1套
充气阀Φ6mm,电磁截止阀1套
基片台可拆卸式60×60mm,具备水冷、旋转功能
真空管路波纹管、真空管道等1套
设备机架机电一体化
预留接口CF35一个
辅件备件CF35铜垫圈及氟密封圈全套等
电阻蒸镀机是一种用于薄膜沉积的设备,主要利用电阻加热的方式将材料转化为蒸气,然后在基材表面沉积形成薄膜。其工作原理通常包括以下几个步骤:1. **材料准备**:将待蒸发的材料放置在电阻加热器上,通常是金属或合金材料。
2. **加热**:通过电阻加热器通电,材料在高温下蒸发,形成气态的原材料。
3. **沉积**:蒸汽扩散到基材表面,并冷凝形成薄膜。基材可以是玻璃、塑料、金属等。
4. **控制**:设备通常配备温度和压力传感器,以确保蒸镀过程的稳定性和均匀性。
电阻蒸镀机广泛应用于光学膜、电子元件、太阳能电池等领域,其优势包括较高的沉积速率、良好的膜质量和较大的适用材料范围。
桌面型热蒸发镀膜仪是一种用于薄膜沉积的设备,广泛应用于材料科学、光学、电子工程以及其他领域。其主要功能包括:
1. **薄膜沉积**:通过热蒸发的方法,将材料加热到其蒸发点,使其以蒸气形式喷发并在基材表面凝结形成薄膜。
2. **膜厚控制**:设备通常配备有膜厚监测系统(如晶体振荡器),可实时监测沉积膜的厚度,确保膜厚达到预期要求。
3. **材料选择**:可以使用多种材料进行沉积,如金属、氧化物、氮化物等,适应不同的应用需求。
4. **真空环境**:设备在高真空环境中操作,以减少气体分子对沉积薄膜的干扰,提高膜的质量。
5. **基材加热**:某些设备可以加热基材,提高材料的附着力和薄膜的均匀性,改善薄膜质量。
6. **多层沉积**:能够进行多层膜的沉积,适用于需要不同功能层叠加的应用。
7. **阀门控制和气体引入**:可以控制沉积环境中的气体成分,以便进行特定的化学反应或改善膜的性能。
8. **用户界面**:一般配备有友好的用户界面,方便操作人员设置参数、监控过程和记录数据。
这种设备通常适合实验室研究和小规模生产,因其体积小、操作简单而受到广泛欢迎。

手套箱一体机是一种结合了手套箱和其他实验设备的综合性实验装置,主要用于处理在惰性气氛(如氮气、氦气等)下进行的实验或操作。其功能通常包括:
1. **惰性气体保护**:手套箱内可以充入惰性气体,避免实验材料与空气中的水分和氧气反应,保护样品的纯净性。
2. **手套操作**:设备通常配有手套,可以在不暴露于外部环境的情况下进行实验操作,如取样、装置组装等。
3. **样品存储**:手套箱内部可以用于存放敏感材料和试剂,确保其不受外界污染。
4. **气体监控**:一些手套箱一体机配备气体监控系统,可以实时监测箱内环境,确保气体浓度和成分的稳定。
5. **温度和湿度控制**:可以调节和控制箱内的温度和湿度,为实验提供理想环境。
6. **接口扩展**:某些手套箱一体机设计有多种接口,可以与其他实验设备联动,如真空泵、反应釜等。
7. **数据记录与控制**:部分设备能够连接计算机或其他控制系统,实现数据记录和实验过程的自动化监控。
手套箱一体机广泛应用于材料科学、化学反应、制药、生物实验等领域,尤其在对氧敏感或湿敏性的材料处理上具有重要意义。

束源炉是一种特殊类型的核反应堆,主要用于研究和医学应用。它的特点包括:
1. **中子源**:束源炉能够产生大量的中子,这些中子可用于材料研究、核检测、医学成像及等领域。
2. **小型化**:与传统的核反应堆相比,束源炉通常较小,设计上更为紧凑,适合于实验室或等场所。
3. **低功率运行**:束源炉的运行功率相对较低,一般在几千瓦到几兆瓦之间,适合用于中子辐照实验。
4. **安全性**:由于功率较低,束源炉的设计通常具有更高的安全性,反应堆的重要系统和结构更易于控制。
5. **多用途**:除了用于基础科学研究外,束源炉还可用于材料分析、核医学以及教育等多个领域,显示出其多功能性。
6. **易于安装与维护**:束源炉一般设计得更加便捷,方便安装和日常维护。
7. **放射性废物处理**:由于其低功率的特性,所产生的放射性废物相对较少,处理相对简单。
这些特点使得束源炉在研究和应用中发挥了重要的作用。

热蒸发镀膜机是一种用于物相沉积(PVD)技术的设备,主要功能包括:
1. **膜层制备**:通过加热蒸发材料,使其转变为气态,并在基材表面沉积形成薄膜。可以用于制备金属、绝缘材料或半导体薄膜。
2. **膜层厚度控制**:通过控制蒸发率和沉积时间,可以调节膜层的厚度。
3. **材料种类选择**:可以使用多种材料进行蒸发,如金、银、铝、氧化物等,以实现不同的光学或电气性能。
4. **真空环境控制**:在真空环境中进行镀膜,降低空气中的杂质对膜层质量的影响,提高膜层的致密性和均匀性。
5. **基材适应性**:可用于多种基材的镀膜,包括玻璃、塑料、金属等。
6. **功能性薄膜的制备**:可以制备不同功能的薄膜,如反射膜、抗反射膜、导电膜、光电膜等,广泛应用于光电子器件、显示器、传感器等领域。
7. **多层膜制备**:可实现多层膜的叠加,制造复杂结构以满足特定的光学或电气特性。
这些功能使得热蒸发镀膜机在材料科学、电子、光学等领域有着广泛的应用。
束源炉(也称为束流炉或束流反应堆)是一种利用加速器产生的粒子束进行核反应的设备。它主要用于以下几个领域:
1. **基础科学研究**:束源炉可用于粒子物理学和核物理学的基础研究,探索粒子的基本性质和相互作用。
2. **材料科学**:束源炉可以用于开发和测试新材料,尤其是在极端条件下(如高温、高压)下的材料性能。
3. **应用**:束源炉在医学成像、(如质子)等领域具有重要应用。
4. **核废料处理**:束源炉可以用于研究和开发核废料处置和转化技术,降低其长期放射性。
5. **新型能源开发**:在聚变能源研究中,束源炉也被应用于研究高温等离子体的行为,以探索可持续的能源解决方案。
束源炉的适用范围不断拓展,随着技术进步和研究的发展,可能会有新的应用领域出现。
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