张家口热蒸镀
浏览次数:83次
- 产品规格:
- 发货地:北京市密云县
关键词
张家口热蒸镀
详细说明
真空腔室L400×W440×H450mm,采用SUS304优质不锈钢
观察窗Φ100mm,含磁力挡板
屏蔽板不锈钢,便于拆卸清洁、更换
水冷蒸发电极8根组成4组
金属蒸发电源功率3kW
复合分子泵JTFB-650Z脂润滑分子泵,抽速650L/s
直联高速旋片式真空泵TRP-36,抽速9L/s
气动高真空插板阀DN150
前级阀/旁路阀DN40
放气阀φ10 电磁充气阀
数显复合真空计两低一高,含规管
波纹管、真空管道材质SUS304不锈钢
热蒸发手套箱一体机是一种用于材料制备和真空蒸发的设备。它结合了手套箱和热蒸发系统,可以在惰性气体氛围下进行样品处理,确保材料的稳定性和纯度。以下是这种设备的一些主要功能和特点:1. **真空环境**: 手套箱内部可以保持低氧或低水分的环境,这对于许多敏感材料重要。
2. **热蒸发技术**: 通过加热蒸发源,将固体材料转变为气态,然后在底物上沉积,为薄膜材料的制备提供了有效的方法。
3. **自动化控制**: 现代一体机通常配备有计算机控制系统,能够控制蒸发速率和沉积厚度。
4. **多功能性**: 除了热蒸发外,有些设备还可以集成其他材料沉积技术,如电子束蒸发或激光蒸发。
5. **安全性**: 手套箱设计可以避免操作者直接接触有毒或危险的材料,提供更安全的操作环境。
6. **适用范围广**: 这种设备广泛应用于光电子、半导体、材料科学以及纳米技术等领域。
如果需要了解更多关于该设备的具体应用或技术参数,欢迎询问!
蒸发舟是一种用于薄膜沉积和蒸发材料的装置,广泛应用于材料科学、半导体制造以及光学薄膜的生产中。它的主要功能和特点包括:
1. **材料蒸发**:蒸发舟通过加热将固体材料加热到其熔点或蒸发点,使其转变为气态,随后沉积到基材上形成薄膜。
2. **薄膜均匀性**:蒸发舟可以控制蒸发速率和温度,从而在基材上形成均匀厚度的薄膜,这对于光学性能和电学性能至关重要。
3. **控制**:通过调整蒸发舟的加热方式(如电阻加热、激光加热等),可以实现对蒸发速率和沉积材料的控制。
4. **多种材料**:可以使用材料,如金属、氧化物和聚合物,进行蒸发沉积,以满足不同应用的需求。
5. **真空环境**:通常在真空环境中进行操作,以减少氧化和污染,提高薄膜的质量和性能。
6. **应用广泛**:用于光电器件、太阳能电池、传感器等多个领域,通过制备高性能薄膜来提升器件性能。
蒸发舟在薄膜技术中的重要性使其成为现代材料科学和工程中的一种关键工具。

束源炉是一种用于核聚变研究和实验的设备,其主要特点包括:
1. **高温高压环境**:束源炉能够创造极高的温度和压力,以促进核聚变反应的发生。
2. **等离子体控制**:通过强磁场或其他手段,束源炉能够有效控制和维持等离子体的稳定性,这是实现聚变的关键。
3. **粒子束注入**:束源炉通常使用高速粒子束注入技术,将粒子直接注入等离子体中,以提高反应的效率以及能量的密度。
4. **实验灵活性**:束源炉的设计允许对不同的聚变燃料(如、氚等)进行实验,这为研究聚变反应提供了灵活性。
5. **能量输出**:如果成功实现聚变反应,束源炉有潜力成为一种的能量来源,对未来的能源解决方案具有重要意义。
6. **研究应用**:束源炉不仅用于基础科学研究,还可应用于医学、材料科学及核能开发等多个领域。
总体而言,束源炉是一种的科学仪器,为核聚变技术的发展提供了重要的实验平台。

热蒸发手套箱一体机是一种用于材料制备和微纳米技术研究的设备,主要功能包括:
1. **真空环境控制**:手套箱内可维持低压或真空状态,防止材料氧化或水分污染。
2. **热蒸发源**:通过加热材料,使其蒸发并在基片上沉积,以形成薄膜或纳米结构。
3. **气氛控制**:可以根据需要调节手套箱内的气氛,比如惰性气体(氮气、氩气)环境,以保护敏感材料。
4. **样品处理**:提供多种方式处理样品,包括加热、冷却、刻蚀等。
5. **厚度控制**:配备的监测系统,可实时监测并控制薄膜的厚度。
6. **操作安全性**:手套箱设计确保操作人员在处理有害或敏感材料时的安全。
7. **自动化系统**:部分型号具备自动化操作功能,提高实验效率并减少人为误差。
8. **配备监测设备**:可以与仪器(如电子显微镜、X射线衍射仪等)联用,进行材料性质分析。
总之,热蒸发手套箱一体机是多功能且的材料制备设备,广泛应用于半导体、光电材料、薄膜技术等领域。

热蒸发镀膜机是一种用于薄膜沉积的设备,广泛应用于电子、光学、材料科学等领域。其主要特点包括:
1. **高纯度材料沉积**:通过热蒸发可以有效地沉积高纯度的薄膜,减少杂质的影响。
2. **良好的膜质量**:热蒸发镀膜技术能够形成均匀且致密的薄膜,具备较好的光学和电气性能。
3. **高沉积速率**:相较于其他镀膜技术,热蒸发具有较高的沉积速率,适合大规模生产。
4. **温度控制灵活**:设备通常配备精密的温度控制系统,可以根据不同材料的特性调整加热温度。
5. **适用广泛**:可以镀覆多种材料,如金属、合金、半导体及绝缘材料等,适用性强。
6. **工艺简单**:热蒸发镀膜工艺相对简单,易于操作和控制。
7. **真空环境**:通常在真空环境中进行,有效减少气体污染,提高膜层质量。
8. **设备投资较低**:相对于其他镀膜设备(如磁控溅射镀膜机),热蒸发镀膜机的设备成本相对较低。
9. **可控性强**:可以通过改变蒸发源的距离、功率和基片温度等来调节膜层的厚度和属性。
总之,热蒸发镀膜机是一种、灵活且经济的薄膜沉积设备,适合应用需求。
热蒸发镀膜机是一种广泛应用于材料科学、半导体工业、光学器件制造等多个领域的设备。其适用范围包括但不限于以下几个方面:
1. **光学镀膜**:用于光学透镜、滤光片、反射镜等光学元件的镀膜,提升其透过率和反射率。
2. **电子器件**:在半导体器件制造中,用于沉积金属或绝缘材料,形成电路图案。
3. **太阳能电池**:用于光伏组件的薄膜沉积,提高能量转化效率。
4. **金属镀层**:在材料表面形成金属层,以增强导电性、抗腐蚀性等。
5. **材料研究**:用于新材料的开发和性能测试,研究薄膜特性及其应用。
6. **装饰性镀层**:在珠宝、钟表等产品上进行装饰性镀层,提升外观及耐用性。
由于热蒸发镀膜机具有良好的沉积均匀性和控制精度,因此在各个领域中都受到广泛应用。
m.qlnm1688.b2b168.com